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SUMMARY
목차
제1장 서론 28
제2장 기능성 미세구조체 제작 및 특성평가기술 개발 30
제1절 서론 30
제2절 반응성이온식각을 이용한 실리콘의 비등방식각 33
제3절 고감도 평면형 다중접합 열전변환기 제작 53
제4절 결론 68
참고문헌 69
제3장 반도체 및 금속의 나노구조 형성과 전기적 특성조사 72
제1절 서론 72
제2절 Si(001) 위의 이종성장(hetero-epitaxy) 76
제3절 Si(001) 면 위의 단원자층 계단구조 77
제4절 결과 및 고찰 81
제5절 결론 89
참고문헌 90
제4장 COXI 및 Metrological AFM 개발 92
제1절 COXI 시스템의 개발[원문불량;p.68] 92
제2절 Metrological AFM의 개발 129
제5장 박막의 표면/계면 분석기술개발 152
제1절 서론 152
제2절 중에너지 이온산란을 이용한 표면/계면 분석기술 개발-(Co/Si(100)의 계면반응 연구) 153
제3절 이온빔과 레이저를 이용한 박막의 조성분석 기술 개발-SNMS 및 SIMS 기술 응용 연구 173
제4절 전자빔 응용 다목적 표면분석 장비 개발 193
참고문헌 207
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Contents
Chapter 1. Introduction 28
Chapter 2. Fabrication and Characterization of Functioning Micro-Structures 30
Section 1. Introduction 30
Section 2. Anisotropic Etching of Si by Using SF6 Reactive Ion Etching 33
Section 3. Fabrication of Highly Sensitive Multi-Junction Thermal Converter 53
Section 4. Conclusion 68
References 69
Chapter 3. Atomic and electronic properties of semiconducting and metallic nanostructures 72
Section 1. Introduction 72
Section 2. Hetero-Epitaxy on Si(001) 76
Section 3. Structure of monatomic steps on Si(001) 77
Section 4. Results and Discussions 81
Section 5. Conclusions 89
References 90
Chapter 4. Development of COXI and MAFM System 92
Section 1. Development of COXI system[원문불량;p.68] 92
Section 2. Development and Metrological AFM 129
Chapter 5. Development of Analysis Techniques for the Surface/Interface of Thin Films 152
Section 1. Introduction 152
Section 2. Development of the Surface/Interface Analysis Techniques using MEIS 153
Section 3. Development of the Surface Composition Analysis Techniques using the Ion beam and the Laser 173
Section 4. Development of Electron Beam applied multi-purpose instrument for Surface analysis 193
References 207
제1장 서론 242
제2장 전기용량 원기 Vertical Cross Capacitor 개발 244
제1절 서론 244
제2절 주전극봉의 최종선정 245
제3절 Inner Cylinder 및 주변장치 251
제4절 주전극봉의 Bending Effect 실험 260
제5절 Upper Guard Electrode 설계제작 264
제6절 광학계 및 Fringe Counting System 272
참고문헌 293
제3장 자체발진형 및 DAC형 조셉슨 전압표준소자 개발 294
제1절 서론 294
제2절 접합유형별 모의실험[원문불량;p.58] 296
제3절 조셉슨 어레이 DAC 설계 300
제4절 SNS 조셉슨어레이 제작 공정연구 309
제5절 조셉슨 어레이 시험 시스템 317
제6절 저온 발진기 설계 및 제작 322
제7절 응용기술 연구 336
제8절 결론 및 논의 338
참고문헌 339
제4장 고분자소자의 광전자 현상 연구 342
제1절 서론 342
제2절 Optical Kerr gating을 이용한 펨토초 백색광의 특성 평가 연구 344
제3절 PPV 고분자의 광 여기상태 이완과 스펙트럼 좁아짐 현상에 대한 펨토초 분광학 연구 350
제4절 전자전달 물질과 홀전달 물질이 치환된 PPV 유도체의 광특성연구 359
참고문헌 372
제5장 분광타원해석법을 이용한 반도체 박막의 광학상수 측정 374
제1절 서론 374
제2절 실리콘 산화막 두께용 CRM 개발 377
제3절 다결정 실리콘 박막의 CRM 개발 385
제4절 SiO₂/c-Si의 계면구조 분석 392
제5절 색소 박막의 굴절률 및 소광계수 분산곡선 403
제6절 결론 407
참고문헌 408
제6장 롱스템 백금저항 온도계 저온교정장치 제작 연구 410
제1절 서론 410
제2절 실험장치 411
제3절 연구결과 412
제4절 결론 425
참고문헌 425
부록 426
제7장 전자파재료의 고주파 유전율 측정기술 개발 430
제1절 서론 430
제2절 개방단말 프로브 측정법 431
제3절 전송선로 법의 air gap 효과 보상 442
제4절 Two-port flanged coaxial holder 측정법 448
제5절 실험 및 결과 450
제6절 결론 457
참고문헌 458
제8장 산업용 온도표준기급 Au/Pd 열전대 개발 460
제1절 서론 460
제2절 Au/Pd 열전대의 특성 461
제3절 실험 방법 469
제4절 실험 결과 및 고찰 477
제5절 결론 491
참고문헌 492
제9장 실리콘 구(球)의 절대측정에 의한 밀도표준확립 494
제1절 서론 494
제2절 측정원리 494
제3절 광학장치 제작 500
제4절 간섭계 구성 505
제5절 결론 509
참고문헌 510
Chapter 1. Introduction 242
Chapter 2. Development of a vertical cross capacitor as a national standard of capacitance 244
Section 1. Introduction 244
Section 2. Final Selection of the Main Electrodes 245
Section 3. Inner Cylinder and its Components 251
Section 4. Experiments of Bending Effects of the Main Electrodes 260
Section 5. Fabrication of the Upper Guard 264
Section 6. Optical System and Fringe Counting System 272
References 293
Chapter 3. Development of Josephson Array DAC 294
Section 1. Introduction 294
Section 2. Simulation for Josephson Junctions[원문불량;p.58] 296
Section 3. Design of Josephson Array DAC 300
Section 4. Fabrication Process of SNS Josephson Array 309
Section 5. Test System for SNS Josephson Array 317
Section 6. Development of Cryogenic Oscillator 322
Section 7. Application Technology 336
Section 8. Conclusion and Discussion 338
References 339
Chapter 4. Study on the photoelectronic properties of conjugated polymer 342
Section 1. Introduction 342
Section 2. Group velocity dispersion of white light continuum using Optical Kerr effects 344
Section 3. Femtosecond Pump-Probe investigation on relaxation of photoexcitations and spectral narrowing of photoluminescence for PPV 350
Section 4. Investigation of photophysical properties on PCzPV and PPBDPV 359
Chapter 5. Development of the Metrology of Optical Constants for Thin Films on Semiconductor Using Spectroscopic Ellipsometry 374
Section 1. Introduction 374
Section 2. Development of SiO₂ thickness CRMs 377
Section 3. Development of polysilicon thin film CRMs 385
Section 4. Analysis of the interface between c-Si and its thermal oxide 392
Section 5. Dispersion curves of refraction index and extinction coefficient of dye film 403
Section 6. Conclusion 407
References 408
Chapter 6. Study on Construction of Low Temperature Calibration Apparatus for Long Stem Platinum Resistance Thermometers 410
Section 1. Introduction 410
Section 2. Measurement system 411
Section 3. Results 412
Section 4. Conclusion 425
References 425
Appendix 426
Chapter 7. Development of measurement techniques for complex permittivity at microwave frequencies 430
Section 1. Introduction 430
Section 2. Open ended coaxial probe method 431
Section 3. The gap correction in TR method 442
Section 4. Two-port flanged coaxial holder method 448
Section 5. Experiment and results 450
Section 6. Conclusions 457
References 458
Chapter 8. Development of industrial standard grade Au/Pd thermocouple 460
Section 1. Introduction 460
Section 2. Properties of Au/Pd thermocouple 461
Section 3. Experimental Procedures 469
Section 4. Experimental Results and Discussion 477
Section 5. Conclusion 491
References 492
Chapter 9. Establishment of Density Standards by Absolute Measurement of Silicon Ball 494
Section 1. Introduction 494
Section 2. Principle 494
Section 3. Design and Construction of Optical System 500
Section 4. Constitution of Interferometer 505
Section 5. Conclusion 509
References 510
제1장 서론 541
제2장 저온 플라즈마 진단기술의 개발 543
제1절 서론 543
제2절 코로나 방전의 특성 및 오염 제거 화학 반응 549
제3절 코로나 방전의 NO-NO₂변환 특성조사 및 발광측정 559
제4절 플라즈마 응용장치에서의 outgassing 측정기술개발 572
제5절 결론 596
참고문헌 597
제3장 음장 재구성에 의한 평균유속 측정 기술 개발 599
제1절 서론 599
제2절 정재파를 이용한 관내 유속 추정 기술 600
제3절 실험 장치와 계측 기기의 구성 607
제4절 실험 결과 및 고찰 609
제5절 결론 621
참고문헌 621
제4장 미소 힘 측정 기술을 이용한 공정 개선 연구 623
제1절 서론 623
제2절 QCM을 이용한 습도 측정 626
제3절 기-고체 반응 속도 측정 644
제4절 힘평형 서보 가속도계 개발 668
참고문헌 682
Chapter 1. Introduction 541
Chapter 2. Study on diagnostic techniques for low-temperature discharge plasma 543
Section 1. Introduction 543
Section 2. Corona discharge characteristic and chemical reaction for NO-NO₂ conversion processing 549
Section 3. Investigation of NO-NO2 conversion process and emission spectroscopy of corona process 559
Section 4. Development of measurement technique of plasma induced outgassing 572
Section 5. Conclusion 596
References 597
Chapter 3. Development of the Mean Fluid Velocity Measurement Technique Using the Sound Field Reconstruction 599
Section 1. Introduction 599
Section 2. Estimation Technique of the Mean Flow Velocity Using the Standing Wave Inside the Pipe 600
Section 3. Experimental Setup and Instruments 607
Section 4. Experimental Results and Discussions 609
Section 5. Concluding Remarks 621
References 621
Chapter 4. Process improvements through micro force measurement technique 623
Section 1. Introduction 623
Section 2. Humidity Measurement Using QCM Technologies 626
Section 3. Gas-Solid Reaction Raye Measurements 644
Section 4. Development of Force-Balance Servo Accelerometer 668
References 682