본 연구에서는 EUV lithography에 사용될 수 있는 감광 재료 중에서도 높은 감도와 에칭 특성을 보여줄 수 있는 metal-organic compounds에 대한 연구를 진행했다. 우리는 그 중 phthalocyanine 단분자 물질을 합성하여 감광재료로 응용하고자 하였다. 해당 물질은 염료로 주로 사용되는 물질로 높은 열적, 화학적 안정성을 가지는 물질로서 작용기와 가운데 공동의 금속으로 다양한 물질의 도입이 가능하다. 따라서 이 물질의 작용기로 고불소화 알킬 에테르 사슬을 가운데 금속으로는 Sn과 Zn를 함유하는 형태로 만들어 negative형 패턴으로서 사용하고자 하였다. 이렇게 만들어진 물질은 박막의 두께에 따라 다른 감도를 지니는 것을 확인하였고, EUV 상 패턴이 형성됨을 확인하였다. 이러한 패턴이 형성하는 메커니즘을 XPS와 nano-indentation을 통하여 규명하였다. 그리고 유기단분자 물질과 metal-organic compounds의 에칭 저항성도 비교하여 우수한 성능을 가지는 것을 확인하였다. 우리는 이러한 에칭 저항성을 좀 더 향상시킬 수 있는 구조를 개발하고자 하였다. 따라서 작용기로 더 안정성이 높은 구조인 불소 방향족 고리를 선택하여 합성을 진행하고, E-beam 상의 패턴이 형성됨을 확인하였다. 이렇게 만들어진 물질이 가운데 금속을 함유하는지 하지 않는지에 따른 에칭 저항성과 작용기에 따른 에칭 저항성을 분석하여 새로운 작용기의 도입의 가능성을 조사하였다.