표제지
목차
국문요약 8
Abstract 10
제1장 서론 12
제2장 이론적 배경 15
2-1. Cu의 특성 15
2-2. Cu 전해도금 개요 15
2-3. 도금 두께 계산법 16
2-4. 가용성 Anode, Copper Ball의 Black Film 성질 및 조성 17
2-5. 염소이온(Cl-)(이미지참조) 17
2-6. 첨가제 역할 17
2-7. 표면 거칠기 20
제3장 실험 방법 22
3-1. 시험편 제작 22
3-2. 황산동 전착액 23
3-3. 전해조 24
3-4. 실험 조건 26
3-5. 측정 방법 26
3-5-1. 전착층 두께 확인 26
3-5-2. 전착층 표면 거칠기 측정 26
3-5-3. 전착층 표면 광택도 측정 27
3-5-4. 저항 측정 27
제4장 결과 및 고찰 29
4-1. 전착층 두께와 형태 29
4-1-1. 전착층 표면 형태 29
4-1-2. 전착층 두께와 온도의 관계 31
4-1-3. 전착층 두께와 전류의 관계 33
4-2. 전착층 표면 거칠기 36
4-2-1. 전착층 표면 거칠기와 온도의 관계 36
4-2-2. 전착층 표면 거칠기와 전류의 관계 39
4-3. 전착층 표면 광택도 42
4-3-1. 전착층 표면 광택도와 온도의 관계 42
4-3-2. 전착층 표면 광택도와 전류의 관계 43
4-4. 전착층 표면 거칠기와 광택도의 관계 44
4-5. 전착조건과 전착 표면의 접촉 저항의 관계 45
4-5-1. 전착온도에 의해 형성된 전착층 형태와 접촉 저항의 관계 45
4-5-2. 전착 전류에 의해 형성된 전착층 형태와 접촉 저항의 관계 45
4-6. 전착층 표면 거칠기와 전착 표면의 접촉저항의 관계 47
4-7. 전착층 표면 광택도와 접촉 저항의 관계 49
제5장 결론 50
참고문헌 53
Table 3-1. Compositions of Electrolytic Solution 24
Table 3-2. Conditions of Electroplating 26
Table 4-1. Effect of Temperature on Glossiness 42
Table 4-2. Effect of Temperature on Glossiness 43
Fig 1-1. Rigid PCB Tech Roadmap 14
Fig 2-1. Metal ion reduction in aqueous solution 16
Fig 2-2. Copper electrodeposition mechanism without additives 18
Fig 2-3. Copper electrodeposition mechanism by Brightener 18
Fig 2-4. Copper electrodeposition mechanism by Carrier 19
Fig 2-5. Copper electrodeposition mechanism by Leveler 20
Fig 3-1. Photo of Copper Anode for experiment 22
Fig 3-2. Photo of Cathode for experiment 23
Fig 3-3. Experiment system 25
Fig 3-4. Gloss meter 27
Fig 3-5. Clamp and specimen for resistance measurement 28
Fig 3-6. Resistance Tester 28
Fig 4-1. Plating Surface by temperature conditions 29
Fig 4-2. Plating Surface by electric current conditions 30
Fig 4-3. Plating thickness by temperature conditions 31
Fig 4-4. Changes in plating shape by temperature conditions 32
Fig 4-5. Plating thickness variation by Electric current conditions 33
Fig 4-6. Growth modes with current density 34
Fig 4-7. Changes in plating shape by Electric current conditions 35
Fig 4-8. Effect of temperature on surface roughness(Ra) 36
Fig 4-9. Effect of temperature on surface roughness(Rz) 36
Fig 4-10. 3D AFM Images of Deposited layer with different Temperature 38
Fig 4-11. Effect of Electric current density on surface roughness(Ra) 39
Fig 4-12. Effect of Electric current density on surface roughness(Rz) 39
Fig 4-13. 3D AFM Images of Deposited layer with different Current 41
Fig 4-14. Effect of Temperature on glossiness 42
Fig 4-15. Effect of Electric current density on glossiness 43
Fig 4-16. Surface roughness (Ra) Vs. Glossiness 44
Fig 4-17. Effect of Temperature on Surface resistance 45
Fig 4-18. Effect of Electric current density on resistance 46
Fig 4-19. Surface roughness (Ra) Vs. Resistance at 20˚ 47
Fig 4-20. Mimetic diagram of resistance measurement 48
Fig 4-21. Resistance (Ω) Vs. Glossiness at 20˚ 49