표제지
목차
논문개요 9
제1장 서론 10
1.1. 연구 배경 10
1.2. 연구 목적 12
제2장 실험 방법 14
2.1. 샘플 제작 14
2.1.1. 샘플 웨이퍼 준비 14
2.1.2. 시편의 제작 16
2.2. 전기 도금방법 및 분석방법 19
제3장 결과 및 토의 22
3.1. 박막의 도금 두께와 조성 22
3.2. P의 함량에 따른 결정 입자의 크기와 경도 변화 27
3.3. P의 함량에 따른 면저항(Rs)의 변화 33
3.4. 입자크기(GS)에 따른 경도 변화 36
3.5. 입자크기(GS)에 따른 면저항(Rs)의 변화 38
3.6. R Programming을 이용한 ANOVA분석 39
제4장 결론 43
참고문헌 44
Abstract 46
〈표 2.1〉 도금액의 조건 17
〈표 2.2〉 도금 조건 표 18
〈표 3.1〉 도금 박막 두께 및 P Content 22
〈표 3.2〉 P Content & 경도(HV), 입자크기(GS) 28
〈표 3.3〉 P Content & 면저항(Rs) 33
〈표 3.4〉 경도(HV) & 입자크기(GS) 비교 36
〈그림 2.1〉 Sputtering 후 Wafer 상태 15
〈그림 2.2〉 시편의 제작 16
〈그림 2.3〉 watt Bath 21
〈그림 2.4〉 Setting of Pulse Generator 21
〈그림 3.1〉 SEM 단면사진(Sample A) 23
〈그림 3.2〉 SEM 단면사진(Sample J) 23
〈그림 3.3〉 SEM 단면사진(Sample S) 24
〈그림 3.4〉 P Content, H₃PO₃ 0.5g 25
〈그림 3.5〉 P Content, H₃PO₃ 0.3g 25
〈그림 3.6〉 P Content, H₃PO₃ 0.1g 26
〈그림 3.7〉 P의 조성 & 입자크기(GS) 30
〈그림 3.8〉 P의 조성 & pre-ht 경도 비교 31
〈그림 3.9〉 P의 조성 & post-ht 경도 비교 31
〈그림 3.10〉 P Content & pre-ht Rs 34
〈그림 3.11〉 P Content & post-ht Rs 34
〈그림 3.12〉 경도(HV) 변화에 따른 입자크기(GS) 36
〈그림 3.13〉 면저항(Rs) 변화에 따른 입자크기(GS) 38
〈그림 3.14〉 GS & H₃PO₃, PCD, DC의 R Programming ANOVA 분석 40
〈그림 3.15〉 RS & H₃PO₃, PCD, DC의 R Programming ANOVA 분석 41
〈그림 3.16〉 Hardness & H₃PO₃, PCD, DC의 R Programming ANOVA 분석 42