표제지
목차
국문요약 8
Abstract 10
제1장 서론 12
제2장 이온 주입 설비 14
2.1. 이온 주입 설비의 분류 16
2.2. 이온 주입 설비의 구성 17
2.2.1. 이온 공급부 19
2.2.2. 추출 전압과 억제 전압 20
2.2.3. 질량 분석기 21
2.2.4. 가속 장치 23
2.2.5. 집속기 24
2.2.6. 주사 장치 25
2.2.7. 이온 주입실 26
2.2.8. 패러데이 시스템 27
2.2.9. 일렉트론 샤워 플루드 건 & 플라즈마 플루드 건 29
제3장 진공 31
3.1. 진공의 범위 31
3.2. 이온 주입기의 진공 시스템 32
3.3. VIISion 200 이온 주입기 진공 시스템 34
제4장 이온주입 36
4.1. 범위 38
4.2. 이온 채널링 39
4.3. 이온의 정지 41
4.4. 이온 주입 손상 43
4.5. 충전 결합 44
4.6. 그림자 효과 45
4.7. 어닐링 46
4.8. 면저항 48
제5장 실험 및 고찰 50
5.1. 실험 방법 52
5.2. 실험 장비 54
5.3. 실험 결과 55
5.3.1. 인 이온 주입시 메인 챔버 압력과 Rs의 상관 관계 분석 55
5.3.2. 비소 이온 주입시 메인 챔버 압력과 Rs의 상관 관계 분석 57
제6장 결론 59
참고문헌 60
표 2-1. 열확산법과 이온 주입법 15
표 2-2. 이온 주입 설비의 종류와 특징 16
표 2-3. 이온 주입기의 정의 17
표 3-1. 이온 주입기 진공 시스템 32
표 3-2. 고진공 펌프의 분류 33
표 4-1. 어닐링 온도와 활성화 정도 47
표 5-1. 이온 주입 조건 51
그림 2-1. VIISion 200 설비의 계통도 18
그림 2-2. 추출과 억제의 원리 20
그림 2-3. BF3 이온의 종류 21
그림 2-4. 질량 분석기의 원리 22
그림 2-5. (a) 자기장 집속 방법, (b) 전기장 집속 방법 24
그림 2-6. (a) 정전기 주사 방식, (b) 기계적 주사 방식, (c) 혼합 주사 방식 25
그림 2-7. 패러데이 시스템에서의 도즈 측정 28
그림 2-8. 일렉트론 샤워 플루드 건 시스템 29
그림 2-9. 플라즈마 플루드 건 시스템 30
그림 3-1. 진공 펌프의 진공의 범위 31
그림 3-2. VIISion 200 이온 주입기의 진공 시스템 35
그림 4-1. 이온 주입 분포를 위해 규격화된 가우시안 분포 36
그림 4-2. (a) 열확산 후의 불순물 분포와 (b) 이온 주입 후의 불순물 분포의 비교 37
그림 4-3. 이온 범위 R과 투사 범위 Rp, 측면 퍼짐 Rt 38
그림 4-4. (a) [110] 축을 따라서 볼 때의 원자 배열과 (b) [110] 축과 10˚ 경사진 방향을 따라서 볼 때 원자의 배열 39
그림 4-5. 에너지의 함수로서 정지력의 개략도 41
그림 4-6. 직렬로 일어나는 충돌에 의해 생기는 손상 덩어리의 모양 43
그림 4-7. (a) 그림자 효과, (b) 대칭 및 회전 이온 주입 45
그림 4-8. (a) 이온 주입 손상과 비활성화된 불순물, (b) 어닐링과 활성화된 불순물 46
그림 4-9. (a) Ra 저항을 측정하기 위한 선형 배치, (b) Rb 저항 측정을 위한 선형 배치 48
그림 5-1. 인 이온 주입 실험 절차 52
그림 5-2. 비소 이온 주입 실험 절차 53
그림 5-3. 회귀 분석, 인 Rs vs. 메인 챔버 압력 56
그림 5-.4 회귀 분석, 비소 Rs vs. 메인 챔버 압력 58
사진 2-1. NV-GSD 이온 소스 헤드 어셈블리 19
사진 4-1. 웨이퍼 충전 결함 44
사진 5-1. VIISion 200 고전류 이온 주입기 54