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표제지
목차
1. 서론 10
2. 이론 12
2-1. LED(light emitting diode) 12
2-1-1. Inorganic LED 12
2-1-2. Organic LED 13
2-2. OLED 의 특성 14
2-2-1. OLED 의 전기적 특성 15
2-2-2. OLED 의 광학적 특성 20
2-2-3. OLED 의 효율 특성 21
2-3. OLED 의 효율 특성 개선 25
2-3-1. 효율 특성 개선 방법 25
2-3-2. ITO(Indium-Tin-Oxide)의 특성 26
2-3-3. 전극의 표면 특성 개선 27
2-3-4. 절연층의 삽입 29
2-4. 박막 제작 방법 33
2-4-1. 물리적 증착(Physical Vapor Deposition: PVD) 33
2-4-2. 화학적 증착(Chemical Vapor Deposition: CVD) 36
2-4-3. 스핀코팅 37
제3장 실험 39
3-1. OLED 소자의 구조 및 물질 특성 39
3-2. 실험내용 및 방법 42
제4장 실험결과 및 토의 44
4-1. 플라즈마 처리 조건에 따른 OLED 의 전기적 특성 및 휘도 특성 44
4-2. 플라즈마 처리 조건에 따른 OLED 의 효율 특성 49
4-3. ITO 박막의 표면의 거칠기 특성 분석 52
4-4. ITO 박막 표면의 화학적 성분 분석 54
4-5. OLED 소자의 impedanace 측정과 전기적 등가 희로 모델링 57
제5장 결론 60
참고 문헌 61
ABSTRACT 64
표 1. 다양한 인광물질에 따른 OLED 특성 24
표 2. 여러 플라즈마 처리에 의한 일함수의 변화 28
표 3. 휘도 500cd/m²을 만들기 위해 필요한 전압 46
표 4. ITO 표면의 화학 성분비 54
표 5. 등가 회로 모델의 저항과 축전용량 58
그림 1. Inorganic LED의 구조 13
그림 2. OLED의 발광 원리 14
그림 3. 유기물/금속 계면에서의 전하 주입 모델 15
그림 4. 온도에 따른 OLED의 전류-전압 곡선 19
그림 5. 양자 효율 도식도 22
그림 6. 전자-정공의 재결합에 의한 엑시톤 형성 24
그림 7. LiF 두께에 따른 터널링 모델:(a) 0nm (b) 0.6nm (c)3.0 nm... 30
그림 8. 각각 다른 유전 상수를 갖는 절연층 삽입 에 따른... 31
그림 9. Sputter 장비의 개략도 34
그림 10. Evaporation 장비의 개략도 35
그림 11. PECVD 장비의 개략도 36
그림 12. Spin coating 에 의한 증착 과정 38
그림 13. OLED 소자의 구조 39
그림 14. (a) 발광층 Tris-(8-Hydroxyquinoline) aluminum 와 정공... 39
그림 15. Inductively coupled plasma tubular reactor system 41
그림 16. Thermal evaporator system 41
그림 17. EL 측정 장치 도식도 43
그림 18. CF4 플라즈마 시간에 따른 전류-전압 특성 44
그림 19. CF4 플라즈마 시간에 따른 휘도 특성 45
그림 20. 최적화된 CF₄, O₂ 플라즈마 처리 소자의... 47
그림 21. 최적화된 CF₄, O₂ 플라즈마 처리 소자의... 48
그림 22. 최적화된 CF₄, O₂ 플라즈마 처리 소자의... 49
그림 23. 효율 향상 메커니즘 50
그림 24. ITO 표면의 거칠기 52
그림 25. 플라즈마 처리한 ITO의 F 1s 의 XPS 스펙트라 55
그림 26. negative dipole 의 형성 메커니즘 56
그림 27. 물질의 표면에 다이폴이 형성 될 경우 56
그림 28. Admittance spectroscopy 57
그림 29. OLED 소자의 등가회로 모델 58
원문구축 및 2018년 이후 자료는 524호에서 직접 열람하십시요.
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