표제지
목차
국문요약 11
제1장 서론 12
1.1. 연구 배경 및 목적 12
1.2. 연구 범위 및 방법 13
1.3. 논문의 구성 14
제2장 이론적 배경 및 관련 연구 16
2.1. 데이터 웨어하우징의 이해 16
2.1.1. 데이터 웨어하우스의 유래 16
2.1.2. 데이터 웨어하우스의 정의 17
2.1.3. 데이터 웨어하우스의 속성 17
2.1.4. 데이터 웨어하우스의 구성 요소 21
2.1.5. 데이터 웨어하우스 구축 모델 22
2.1.6. 데이터 웨어하우스와 데이터 마트의 비교 25
2.2. DSS의 이해 26
2.2.1. DSS의 유래 26
2.2.2. DSS의 정의 27
2.2.3. DSS의 구성 28
2.2.4. DSS의 설계 요건 29
2.2.5. DSS의 필수 기능 30
2.3. OLAP의 이해 32
2.3.1. OLAP의 정의 32
2.3.2. OLAP의 종류 34
2.3.3. MOAL과 ROLAP의 비교 37
2.4. 반도체 제조 프로세스의 이해 38
2.4.1. 18단계 제조 공정 38
2.4.2. FAB 공정과 품질 이슈 40
2.4.3. 제조 품질의사결정 업무 유형 48
2.5. 기존 시스템의 문제점 51
2.5.1. 품질 데이터의 분산 52
2.5.2. 데이터 중복 심화 53
2.5.3. 영역 간 데이터 비 표준화 54
2.5.4. 데이터 구조의 확장성 미흡 54
2.5.5. 장기 데이터 보관 능력 부족 55
2.5.6. 신규 주제 대응력 부족 56
2.5.7. 데이터 량 증가로 급격한 서버 성능 저하 57
제3장 SQDW의 설계 60
3.1. 설계 시 고려 사항 60
3.1.1. 전사 관점의 주제영역 분석/정의 60
3.1.2. 통합 대상 데이터 선정 및 서비스 역할 정립 61
3.1.3. 활용 특성을 고려한 데이터 스키마의 결정 61
3.1.4. 데이터 웨어하우스의 기술구조 결정 63
3.1.5. 데이터 서비스 기간, 백업, 보존 방법의 결정 65
3.2. SQDW의 최적 설계 방안 66
3.2.1. 품질 의사결정 지원 요구사항 분석 66
3.2.2. 제조 품질 데이터 현황 조사 67
3.2.3. 기존 데이터 모델 분석 69
3.2.4. 데이터 모델 개선 방안 수립 72
3.2.5. 제조 품질 데이터 주제영역의 정의 76
3.2.6. 논리적 데이터 모델의 설계 78
3.2.7. 물리적 데이터 모델 설계 및 DB 생성 79
3.2.8. ETL 설계 79
3.2.9. OLAP 서버 및 모델베이스 설계 81
3.2.10. 데이터 마트의 요구분석 및 설계 82
3.3. SQDW의 아키텍처 83
3.3.1. SQDW 아키텍처 83
3.3.2. SQDW 소프트웨어 아키텍처 85
3.3.3. SQDW 하드웨어 아키텍처 88
제4장 구현 및 평가 90
4.1. 구현 90
4.1.1. ETL 개발 90
4.1.2. 데이터 초기 적재 및 검증 91
4.1.3. 변경 적재 및 시범 운영 92
4.1.4. View 생성 및 품질 DSS 테스트 92
4.1.5. 응용시스템 서비스 및 SQL 튜닝 93
4.2. 구현 모델의 평가 결과 93
제5장 결론 및 향후 연구 과제 97
5.1. 연구 결과 97
5.2. 향후 연구 과제 98
참고문헌 100
Abstract 102
표 2.1. 데이터 웨어하우스와 데이터 마트의 차이점 25
표 2.2. OLTP vs. OLAP 34
표 2.3. MOLAP 및 ROLAP의 특징 비교 38
표 2.4. 기존 품질시스템 현황 분석 결과 52
표 3.1. Star Schema와 Snowflake Schema의 비교 62
표 3.2. 요구사항 취합 양식 67
표 3.3. 테이블 매핑 정의서 (예시) 80
표 4.1. SQDW 적용 평가 결과 94
그림 2.1. 데이터 웨어하우스의 주제 지향적 속성 18
그림 2.2. 데이터 웨어하우스의 통합적 속성 19
그림 2.3. 데이터 웨어하우스의 비 휘발성 20
그림 2.4. 데이터 웨어하우스의 구성 요소 21
그림 2.5. Top-down 아키텍처 23
그림 2.6. Bottom-up 아키텍처 24
그림 2.7. DSS의 발전 과정 26
그림 2.8. ROLAP 아키텍처 36
그림 2.9. 반도체 제조 과정 39
그림 2.10. Oxidation 공정 41
그림 2.11. Photo resist Coating 공정 42
그림 2.12. Exposure 공정 43
그림 2.13. Development 공정 44
그림 2.14. Etching 공정 45
그림 2.15. Ion Implementation 공정 46
그림 2.16. Chemical Vapor Deposition 공정 46
그림 2.17. Metal Deposition 공정 47
그림 2.18. 기술변화에 따른 품질 데이터 량 증가 추이 57
그림 2.19. 데이터 증가에 따른 서버 성능 비교 58
그림 3.1. 데이터 웨어하우스 Magic Quadrant 2008 64
그림 3.2. 제조 품질 데이터 현황 조사 모델 68
그림 3.3. SQDW의 Data Scope Definition Model 68
그림 3.4. Chip 데이터 저장 구조 70
그림 3.5. Chip 데이터 저장 구조 개선 모델 72
그림 3.6. Real Chip 계측 데이터 모델 73
그림 3.7. 품질 데이터 보존 필요기간 분석 75
그림 3.8. 제조 품질 데이터 주제영역 77
그림 3.9. 반도체 품질 데이터 모델 (SQDM) 78
그림 3.10. SQDW OLAP 서버 모델 81
그림 3.11. SQDW 아키텍처 모델 83
그림 3.12. SQDW 소프트웨어 아키텍처 86
그림 3.13. Shared Nothing 아키텍처 및 성능 특성 87
그림 3.14. SQDW 하드웨어 아키텍처 88
그림 4.1. 솔루션을 활용한 ETL 개발 (예시) 90